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            離子減薄儀

            賽默飛化學分析儀器
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            離子減薄儀

            離子減薄儀

            離子減薄儀應屬于離子束加工的范疇。其方法是用高能離子束轟擊樣品表面、高能離子與樣品表面原子發生彈性碰撞、樣品表面原子能量增大至高于該原子的逸出功時,便飛離樣品,這樣就使樣品表面不斷失去原子——減薄。離子減薄過程必須在真空狀態下進行,離子減薄技術將在地礦和骨科研究領域得到更廣范的應用,從而帶動透射顯微學在上術領域得到更大的發展。
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            Leica/Bal-Tec 離子減薄儀

            Leica/Bal-Tec 離子減薄儀

            • 品牌: 徠卡顯微系統
            • 型號: RES102
            • 產地:德國
            • 供應商:天津徠科光學儀器有限公司

              儀器簡介: 功能最強大的離子減薄儀器,徠卡RES102多功能離子減薄儀。Leica EM RES102 是一款獨特的離子束研磨設備,帶有兩個鞍形場離子源,離子束能量可調,以獲得最佳離子研磨結果。這一款獨立的桌面型設備集 TEM,SEM和LM樣品制備功能于一體,這與市面上其它設備截然不同。除了高能量離子研磨功能外,徠卡EM RES102還可用于低能量極溫和的離子束研磨過程。功能介紹.透射電鏡TEM樣品離子減薄.掃描電鏡SEM樣品大面積平面離子拋光.掃描電鏡SEM樣品離子刻蝕.掃描電鏡SEM樣品截面切割.聚焦離子束FIB樣品去除非晶損傷層全馬達控制的雙離子槍和樣品臺技術參數:減薄角度可調由0至90 主機內置2級泵,確保高真空加速電壓范圍:800V~10kV(100V步進)最大離子電流:不小于4.5mA(單把離子槍)離子槍傾斜角:±45度(精確到0.1度)樣品臺傾斜角:-120度~210度(精確到0.1度).四級系統隔膜泵和渦輪分子泵.真空度優于1×10-5mbar.真空預抽室換樣時間少于1分鐘主要特點:減薄角度可調由0至90 一體化設計,重復性實驗設備,可靠具操作性 全電腦控制,精確的參數調整,運行中無需人干涉 鞍式離子槍,高能量-快速蝕刻 制冷系統,銅傳導,確保TEM,SEM在低溫下操作 主機內置2級泵,確保高真空 減少裝卸時間,高效率 操作簡便直觀,帶自保護防止離子溢出與過熱功能 法拉力環檢查樣品是否穿孔,自動終止功能 裝載閘保持系統高真空度穩定不變 減薄過程中離子能量高低可調 內置視頻監視器,直接觀察樣品減薄情況 可編程,觸摸屏設計,直觀操作

            GL2011離子減薄儀

            GL2011離子減薄儀

            • 品牌: 北京裕隆
            • 型號: GL2011
            • 產地:
            • 供應商:北京裕隆時代科技有限公司

              工作原理離子減薄制樣技術屬于離子束加工范疇。其方法是用高能離子束轟擊樣品表面、高能離子與樣品表面原子發生彈性碰撞、樣品表面原子能量增大至高于該原子逸出功時,便飛離樣品,從而使樣品逐漸減薄。離子減薄儀通常用雙槍從樣品兩側轟擊。樣品隨著支架旋轉,使得離子束轟擊均勻。產品描述GL2011型離子減薄儀由國內頂尖專家精心設計制作,性能穩定,應用廣泛,可對金屬、非金屬、陶瓷、礦物、半導體、骨骼、牙齒等幾乎所有固體材料進行精密減薄處理。產品特點 多功能樣品臺,兼具離子減薄和離子拋光功能 離子束流自動控制 監視系統采用聚光光源 減薄過程無離子束遮擋 精心設計防污染觀察系統 結構緊湊,體積小,精密 設計,防誤操作系統 樣品潔凈,樣品信息更為 真實可靠技術參數產品名稱離子減薄儀離子束加速電壓0-10KV連續可調最大束流密度大于200μA/cm減薄速度(銅)30μ/h(最大)樣品對離子束的傾角5-90°(普通臺)0-90°(精細拋光臺)真空度5×10-3Pa(不送氣)離子束對樣品的最小傾角7°(普通試樣臺)2°(拋光試樣臺)案例:超薄鋁箔離子減薄效果減薄15微米減薄20微米減薄25微米案例說明:樣品為約100u的鋁箔,表面為鋁的氧化物。用化學方法或者物理摩擦的方法減薄,都會非常明顯的破壞樣品表面形貌,甚至改變樣品化學成分。使用GL-2011型離子減薄儀減薄后,在電子顯微鏡下可以觀察到,樣品沒有任何變形,而且獲得完美清晰的樣品圖像。裕隆時代,您最好的選擇!

            徠卡多功能離子減薄儀 Leica EM RES102

            徠卡多功能離子減薄儀 Leica EM RES102

            • 品牌: 徠卡顯微系統
            • 型號: EM RES102
            • 產地:奧地利
            • 供應商:徠卡顯微系統(上海)貿易有限公司

              Leica EM RES102 通過離子槍激發獲得離子束,以一定入射角度對樣品進行轟擊,以去除樣品表面原子,從而實現對樣品的離子束加工。Leica EM RES102主要功能為:對無機薄片樣品進行離子減薄,使得薄片樣品可被透射電子穿過,從而適宜TEM透射電子顯微鏡觀察;對無機塊狀樣品進行離子束拋光、離子束刻蝕,樣品表面離子清洗及斜坡切割,便于SEM掃描電子顯微鏡觀察樣品內部結構信息。您的優勢主要技術參數: 具有2把離子槍,離子束能量為0.8keV-10keV,相對位置,可分別±45°傾斜,樣品臺傾斜角度-120°至 210°,離子束加工角度0°至90°,樣品平面擺動角度<360°,垂直擺動距離±5mm。實際操作參數根據具體應用需要選擇(系統備有參考參數,也可自行設置參數并存儲) 可選配樣品臺:TEM樣品臺(?3.0mm或?2.3mm),FIB樣品清洗臺,SEM樣品臺,斜坡切割樣品臺(對樣品35°或90°斜坡切割)等 SEM樣品臺可容納最大樣品尺寸:直徑25mm,高度12mm全無油真空系統,樣品室帶有預抽室,保證樣品交換時間<1分鐘全電腦控制,觸摸屏操作界面,內置視頻觀察系統,可實時觀察樣品處理過程

            離子減薄儀

            離子減薄儀

            • 品牌: 美國FISCHIONE
            • 型號: 1050
            • 產地:美國
            • 供應商:上海育豐國際貿易有限公司

              儀器簡介: 一、1050型離子減薄儀性能概述 For many of today’s advanced materials, analysis by transmission electron microscopy (TEM) is the best technique for studying material structure and properties. Fischione Model 1050 TEM Mill is an excellent tool for creating the thin, electron transparent specimens needed for TEM imaging and analysis. 整臺儀器設計緊湊,觸摸屏的設置,可以自動控制減薄過程. 離子源自清洗功能,省略了定期清洗離子源的工作. 離子源電磁聚焦磁場,金屬樣品微粒不會吸附在離子源處. 大樣品臺和懸空工作的設計,再加上超大空間樣品室,使得樣品散熱效果明顯. 樣品采用彈簧卡頭固定,避免用粘粘方法造成的樣品污染問題,同時,可以在零角度時減薄。. 兩個獨立的離子源,其電壓(0.1~6Kev),電流(3~10mA)可調. 減薄入射角-10o ~ +10o ,樣品臺旋轉0o ~ 360o 制備具有大面積電子穿透區的樣品, 采用無油分子泵可保持樣品不受污染,抽真空的時間小于4分鐘. 樣品的觀察可借助透射光或反射光. 液氮冷臺可將樣品冷凍到低于-150 o C(可選件) 技術參數: Variable voltage 0.1 to 6.0 kV operation (continuously adjustable) 兩個離子源電壓100eV~6.0KV連續可調 Beam current density up to 10 mA/cm2 束流密度最高可達10 mA/cm2,連續可調 Milling angle range of -10o to +10o 減薄入射角-10o ~+ 10o Specimen rock with 1o increments adjustable from 1o to 360o 樣品臺旋轉0o ~ 360o Turbomolecular Vacuum Pump with an integral molecular drag stage (70lps) 渦輪分子泵 Oil-free diaphragm backing pump 無油隔膜泵 Vacuum sensing is accomplished with a Pirani gauge 真空測定用皮拉尼真空計 Two TrueFocus ion sources direct controlled diameter ion beams 專利設計的實時聚焦系統,會根據加速電壓的不同,自動調整聚焦磁場強度,聚焦離子束。(與永磁鐵的固定磁場不同)確保在低電壓時,也具有超高的能量密度 Contamination-free specimen mounting 專用的樣品夾技術,可以確保在零角度時的減薄時也沒有污染。

            精密離子減薄儀

            精密離子減薄儀

            • 品牌: 美國Gatan
            • 型號: 691
            • 產地:美國
            • 供應商:科揚國際貿易(上海)有限公司

              儀器簡介:離子減薄儀(Precision Ion Polishing System ):為整套TEM樣品制備的最后一道工序,經氬離子減薄的樣品可在TEM 下直接觀察。GATAN型號691最新一代精密離子減薄儀在標準配置中增加了低能量離子槍功能,最低離子槍能量只有0.1KeV,尤其適合能量敏感性樣品。此外,剛剛新推出的可選配置液氮冷臺,可滿足用戶對溫度敏感性樣品減薄的需求。技術參數:離子源 離子槍 兩個潘寧離子槍與微型稀土永磁體 減薄角度 +10° 到 -10°,每個離子槍均獨立可調節 離子束能量 100eV 到6.0 KeV 光束直徑 5keV 下350μm FWHM - 寬離子槍5keV 下800μm FWHM 離子電流密度 最大 10mA/cm2 離子束調制 通過熒光屏精密調整離子束 離子束尺寸 通過氣體控制調整 樣品臺 樣品尺寸 3mm或2.3mm 底座 Gatan 專利DuoPost(標準)或者石磨載臺(可選配) 旋轉速率 1rpm - 6rpm 離子束調制 針對特殊橫截面可選擇單面或雙面減薄 觀測器 雙目顯微鏡 40X或80X CCD相機搭配17’’LCD顯示器 300x-2200x(可選配) 真空 干燥泵系統 兩個部分,隔膜機械泵搭配一個70 升/秒渦輪分子泵 壓力 5E-6 Torr(6.6E-4Pa)基本壓力 8E-5 Torr(10.7E-3Pa)工作壓力 真空計 樣品室冷陰極標尺,搭配固態壓力傳感器 樣品調換 Gatan專利 WhisperlokTM,樣品更換時間<1分鐘 樣品的Airlock <30 秒 尺寸及功率 總尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H) 貨運重量 45kg (100 lbs) 能量消耗 運行時需200W,離子槍關閉時需100W 電源要求 通用電壓 100VAC-240VAC,50/60Hz(用戶需確定電壓和頻率) 氣體 氬氣 25psi (1.42 bar,0.18 MPa)主要特點:PIPSTM是一臺深受客戶信賴的精密離子減薄儀,能夠以最小的耗費制作出高質量透射電鏡用樣品 重點強調容易使用的特點,PIPSTM還具有完全手工控制,可靠,操作簡便,易于維修的特點。Gatan PIPSTM包括了幾個獨特的設計特點。 高減薄速率,低角度小于1度 潘寧槍零部件無消耗 whisperlok專利快速、簡單交換樣品 雙面樣品載臺(專利),低角度減薄 離子束調制提供單面和雙面部分減薄 CCD圖像“實時”影像監視錄影(可選配) 化學輔助離子束刻蝕(CAIBE),大大提高了半導體材料的細化(可選配)

            PIPS Cold Stage

            PIPS Cold Stage

            • 品牌: 美國Gatan
            • 型號: 691.CS
            • 產地:美國
            • 供應商:科揚國際貿易(上海)有限公司

              儀器簡介:PIPS Sample Cooling Option New technology and developments in new materials require changes in ion milling techniques to enhance sample quality and high-resolution TEM results. Gatan's Precision Ion Polishing System (PIPS) continues to be an industry standard for TEM sample preparation. To enhance the performance and capabilities of the PIPS, a liquid nitrogen (LN2) cooling option is now available.技術參數:Specifications Cooling Source Liquid Nitrogen (LN2) Dewar Capacity 250ml Dewar lasting time 3hrs - 4hrs Dewar and conductor rod share chamber vacuum Dewar heater for LN2 boil-off Electornic Controller Controls Rotary dial adjusts conductor temperature Digital display monitors conductor temperature Heater 1 regulates conductor temperature (-180°C to +100°C) Heater 2 enables fast boil-off for Dewar to run the stage at room temperature if desired. Dewar boil-off time about 45 minutes Temperature sensor - Silicon diode Power Universal Voltage / Frequency 100VAC - 240VAC / 50-60Hz / 70W Controller Dimensions 100mmH x 140mmW x 225mmD (4H x 5.5W x 9D) Shipping Weight - 10 lbs (4.5 kg) Warranty - One year US customers order upgrade directly through Gatan Corporate Headquarters in Pleasanton, CA, USA. Telephone: 1.925.224.7314. International Customers must order through their local Gatan Sales office or distributor. Model No. Description 691.CS New PIPS ion mill with cold stage WhisperlokTM and electronic temperature controller 691.CS.UPG Customer installed Upgrade package to add sample cooling to an existing PIPS Spares & Consumables 691.08450.FR Cold Stage window (pkg. of 10) 691.17305 Moly disulfide O-ring lubricant, 1 gm 06985 Quad-seal #111, Cold stage x2主要特點:Features & Benefits Dewar and conductor rod share PIPS vacuum Easy to fill Dewar with 3 - 4 hr capacity Sample temperature specification [e.g., minimum -120°C (+/- 25°C)] Electronic temperature regulation (-180°C to +100°C) Controller display monitors conductor temperature Fast cool down time (approximately 10 minutes) Fast warm up time before venting (approximately 10 minutes) Uses same standard PIPS DuoPost sample holders Through transmission illumination Built-in Dewar heater enables Dewar boil-off Upgrade or Option This new cold stage replaces the standard WhisperlokTM mechanism. It may be ordered with a new PIPS or as an upgrade for a PIPS in the field. The upgrade is designed to be installed by a user on-site. NOTE: The upgrade option is not available for PIPS with vertical front panels manufactured before June 1992. Operation The LN2 Dewar assembly mounts into the existing vacuum manifold, replacing the PIPS vent-valve assembly or liquid-nitrogen trap. The new assembly helps improve the overall chamber vacuum. When the sample is lowered into the milling position, the sample mount (DuoPostTM) makes thermal contact with the cold conductor, and milling can begin in approximately 10 minutes. When the sample is raised into the airlock, thermal contact is detached. The sample warms and can be vented in approximately 10 minutes. The electronic temperature controller displays the cold conductor temperature and drives two built-in warming heaters: Heater 1 regulates the cold conductor temperature (i.e. sample holder temperature). Regulation of the cold conductor is desirable for samples having a phase-transition temperature below -100°C, for example, that you want to avoid; the conductor temperature is then set to any temperature between -100°C and +100°C, prior to inserting the sample. Different users may want to mill at room temperature after the stage is cold. This is easily achieved by setting the conductor temperature to 23°C and waiting approximately 20 minutes. Heater 2 allows fast boil-off of liquid nitrogen in the Dewar. This is used if subsequent users do not want sample cooling. The temperature sensor for the cold stage is attached to heater 1 which is mounted to the cold conductor assembly, not to the sample or sample holder. Since the sample is mounted to the top of the rotating piston, it is difficult to monitor sample temperature; therefore, the temperature displayed on the controller is not the same as the sample temperature. Once sample perforation occurs, the thinnest (electron transparent) area is unable to effectively dissipate heat; heat transfer is very poor across extremely thin material sections. Therefore regardless of cooling, the localized temperature rise incurred when milling heat sensitive materials may still be relatively high. NOTE: This essential rule applies to any ion mill with a cold stage. Performance Typically, semiconductor compounds containing Indium develop Indium islands on the surface when ion milled with argon. The belief is that preferential sputtering enriches the surface with Indium and that heat generated by the ion beam melts the Indium which then agglomerates forming small globules on the surface. Studies have shown the agglomerates of Indium can be prevented by ion milling the sample with the use of a cold stage. Numerous users have also had success ion milling Indium using other techniques but there are risks and/or higher costs associated with them: CAIBE system with iodine: This technique avoids surface enrichment of Indium at the start and chemically assists the ion beam with an iodine vapor stream at the point of contact of the ion beam Substitution of argon with xenon (Xe): Indium island formation during ion milling can also be eliminated using this technique. Applications Examples of heat sensitive materials ion milled in PIPS with a cold stage upgrade courtesy of: Prof. Dave Smith and Mr. Changzhen Wang, Arizona State University (ASU); Mr. Weifeng Ye and Dr. Heiping Sun in Prof. Rachel Goldman's group in the Department of Materials Science and Engineering, Univ. of Michigan (EMAL). Application 1: Arizona State University (ASU) ASU uses the Gatan Model 600 DuoMill for ion milling of all heat sensitive materials. The ASU users performed a competitive analysis between their DuoMill and their PIPS system with the new cold stage installed. We can now run all our samples in the PIPS to our advantage. The cool down/warm up time is several times faster in the PIPS as is the milling rate. Application 2: University of Michigan Sample Preparation: Sample polished flat and parallel to about 40um; no dimpling was performed. Sample mounted to a Clamp Type DuoPost. Dewar was charged, sample lowered and milling started in approximately 10 minutes. Top and bottom guns maintained at same angles. Beam modulation was on at double sector.

            PIPS 自動裝樣儀器

            PIPS 自動裝樣儀器

            • 品牌: 美國Gatan
            • 型號: 691.08645
            • 產地:美國
            • 供應商:科揚國際貿易(上海)有限公司

              儀器簡介:PIPS 裝樣器 開發出三種PIPSTM獨特裝樣器來滿足所有TEM樣品的需求: l DuoPost夾具使用簡便,并能夠快速進行樣品調換。 l DuoPost膠用于易碎和感光型樣品。 l 石磨裝樣器能夠降低樣品污染 提供其他附加功能的同時,石磨裝樣器可以和鋁DuoPost一樣,提供相同的雙面低角度減薄(離子減薄) 每個裝樣器都可以在角度小于1度的情況下進行雙面離子束減薄。DuoPost裝樣器和石墨裝樣器的設計能夠提供最小離子束曝光,并配以離子束調制明顯延長裝樣器壽命。兩常規固定裝置(裝卸)方便樣品裝入這些裝樣器。 石墨的優點 l 減少來自裝樣器的污染 l 和金屬相比,石墨具有較慢的濺射速率,增加使用壽命 l 濺射材料為無定形結構并具有導電性,因此在使用TEM檢測和分析絕緣材料時,最終能夠減少電荷問題。 樣品保護于夾具中 l 兩個獨立的夾片緊夾樣品的外邊緣 l 使用低熔點蠟也能夠將樣品牢粘于夾具上 l 每邊夾具距中心相對偏移為-0.5mm l 夾具允許樣品中有一個特定范圍的調制作為PIPS中心的旋轉 尺寸配置 l 相對較大比例的DuoPostTM能提供更有效率的散熱 裝卸 l 樣品能簡便裝入石墨裝樣器 l 內置的LED傳導器傳送光協助照明檢驗半透明樣品(薄硅、陶瓷) PIPS石墨裝樣器(可選配) PIPSTM鋁DuoPostTM(標準) 定購信息 型號 種類 691.08645 石墨裝樣器 691.08600.FR DuoPost,膠粘型 3mm 691.08401* 彈簧樣品安裝組合 691.08650 石墨裝卸器搭配二極管 691.08601.FR DuoPost,夾具型 3mm 照明器 帶*表示只有98年10月之前的PIPSTM才有這個型號

            磁力驅動電解雙噴減薄儀

            磁力驅動電解雙噴減薄儀

            • 品牌: 北京中興百瑞
            • 型號: ZB-MT3000
            • 產地:
            • 供應商:北京中興百瑞技術有限公司

              電解拋光減薄是制備金屬薄膜最常用的方法之一。雙噴射電解減薄器是其中主要的一種裝置。ZB-MT3000磁力驅動電解雙噴減薄儀,增設了自壓式液氮冷卻系統,提高了電解液冷卻速度,使用更方便,特別適用于無干冰供應的地區。此外,本裝置仍保留原有的干冰冷卻槽,用戶可根據具體條件選擇電解液冷卻方式。ZB-MT3000磁力驅動電解雙噴減薄儀具有以下優點:1. 采用同軸光導控制,對中性好、使用過程無需調整、操作方便。一對同軸光導封裝在噴管中,操作過程不會被折斷,還能屏蔽外界光源的影響,提高信-燥比。因此,在金屬薄片拋光減薄穿孔時能接收到較強的光信號,穿孔報警控制靈敏、準確/2. 電解液噴射循環泵的驅動馬達與電解槽分隔開,馬達不會被電解液污染,運行安全可靠。3. 樣品佳采用雙斜面壓緊方式,既適用于裝Φ3mm圓形薄片,又可以裝3*5mm矩形金屬薄片。由于金屬薄片在壓緊過程不產生扭力,即使脆性的金屬薄片在壓緊過程也不會引起變形或破裂。4. 自壓式液氮冷卻系統,快速冷卻電解液,此外還保留干冰冷卻系統。用戶根據具體條件、選擇電解液冷卻方式。5. 電氣線路安全可靠。產品編號ZB-MT3000產品名稱磁力驅動電解雙噴減薄儀電壓:0-100V電流0-100mA常用附件

            ZB-YQ69離子減薄儀

            ZB-YQ69離子減薄儀

            • 品牌: 北京中興百瑞
            • 型號: ZB-YQ69
            • 產地:
            • 供應商:北京中興百瑞技術有限公司

              性能特點1、監視系統采用聚光光源2、減薄過程無離子束遮擋。3、觀察系統設計有了防污染系統4、結構緊湊,體積小,有防誤操作系統5、可獲得十分清潔的樣品,使得從樣品中提取的信息更為真實可靠。6、適用性廣泛,可制備金屬、非金屬、陶瓷、礦物、半導體、骨骼、牙齒等幾乎所有固體材料產品編號ZB-YQ69產品名稱離子減薄儀離子束加速電壓0-10KV 連續可調最大束流密度大于 200μA/cm減薄速度( 銅 )30μ/h(最大)樣品對離子束的傾角5-90°(普通臺)0-90°(精細拋光臺)真空度5×103Pa(不送氣)離子束對樣品的最小傾角7°(普通試樣臺)2°(拋光試樣臺)

            MTP -磁力驅動雙噴電解減薄器

            MTP -磁力驅動雙噴電解減薄器

            • 品牌: 北京中興百瑞
            • 型號: ZB-MTP-1A
            • 產地:
            • 供應商:北京中興百瑞技術有限公司

              電解拋光減薄是制備金屬薄膜最常用的方法之一。雙噴射電解減薄器是其中主要的一種裝置。MTP-1型磁力驅動雙噴射電子減薄器,增設了自壓式液氮冷卻系統,提高了電解液冷卻速度、使用更方便,特別適用于無干冰供應的地區。此外,本裝置仍保留原有的干冰冷卻槽,用戶可根據具體條件選擇電解液冷卻方式。改進后的MTP-1A型磁力驅動雙噴射電解減薄器具有以下優點: 1. 采用同軸光導控制,對中性好、使用過程無需調整、操作方便。一對同軸光導封裝在噴管中,操作過程不會被折斷,還能屏蔽外界光源的影響,提高信-燥比。因此,在金屬薄片拋光減薄穿孔時能接收到較強的光信號,穿孔報警控制靈敏、準確。 2. 電解液噴射循環泵的驅動馬達與電解槽分隔開,馬達不會被電解液污染,運行安全可靠。 3. 樣品佳采用雙斜面壓緊方式,既適用于裝Φ3mm圓形薄片,又可以裝3X5mm矩形金屬薄片。由于金屬薄片在壓緊過程不產生扭力,即使脆性的金屬薄片在壓緊過程也不會引起變形或破裂。 4. 自壓式液氮冷卻系統,快速冷卻電解液,此外還保留干冰冷卻系統。用戶根據具體條件、選擇電解液冷卻方式。 5. 電氣線路安全可靠。 MTP-1A型磁力驅動雙噴射電解減薄器的結構合理、操作方便,能確保在金屬薄片中心區域獲得較大的薄片。產品編號ZB-MTP-1A產品名稱磁力驅動雙噴電解減薄器電壓:0-100V電流0-100mA常用附件液氮冷卻

            Leica EM RES101多功能離子減薄儀

            Leica EM RES101多功能離子減薄儀

            • 品牌: 徠卡顯微系統
            • 型號: Leica EM RES101
            • 產地:德國
            • 供應商:廣州領拓貿易有限公司

              多功能離子減薄儀EM RES102Leica EM RES102 通過離子槍激發獲得離子束,以一定入射角度對樣品進行轟擊,以去除樣品表面原子,從而實現對樣品的離子束加工。Leica EM RES102主要功能為:對無機薄片樣品進行離子減薄,使得薄片樣品可被透射電子穿過,從而適宜TEM透射電子顯微鏡觀察;對無機塊狀樣品進行離子束拋光、離子束刻蝕,樣品表面離子清洗及斜坡切割,便于SEM掃描電子顯微鏡觀察樣品內部結構信息。* 具有2把離子槍,離子束能量為0.8keV-10keV,相對位置,可分別±45°傾斜,樣品臺傾斜角度-120°至 210°,離子束加工角度0°至90°,樣品平面擺動角度<360°, 垂直擺動距離±5mm。實際操作參數根據具體應用需要選擇(系統備有參考參數,也可自行設置參數并存儲)* 可選配樣品臺:TEM樣品臺(?3.0mm或?2.3mm),FIB樣品清洗臺,SEM樣品臺,斜坡切割樣品臺(對樣品35°或90°斜坡切割)等* SEM樣品臺可容納最大樣品尺寸:直徑25mm,高度12mm* 全無油真空系統,樣品室帶有預抽室,保證樣品交換時間<1分鐘* 全電腦控制,觸摸屏操作界面,內置視頻觀察系統,可實時觀察樣品處理過程

            離子減薄儀招標信息

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