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            輝光放電質譜儀

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            輝光放電質譜儀

            輝光放電質譜儀

            輝光放電質譜儀GDMS是輝光放電質譜法的簡稱。是利用輝光放電源作為離子源與質譜儀器聯接進行質譜測定的一種分析方法。GDMS在多個學科領域均獲得重要應用。在材料科學領域,輝光放電質譜儀GDMS成為反應性和非反應性等離子體沉積過程的控制和表征的工具。輝光放電質譜儀GDMS已成為無機固體材料,尤其是高純材料雜質成分分析的強有力方法。
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            AstruM 高分辨率輝光放電質譜儀

            AstruM 高分辨率輝光放電質譜儀

            • 品牌: 英國Nu Instruments
            • 型號: AstruM
            • 產地:英國
            • 供應商:Nu儀器(北京)有限公司

              AstruM高分辨率輝光放電質譜儀是分析高純物質雜質元素的低級儀器,廣泛的得到高純金屬,半導體,光伏產業,鋼鐵等等行業的認可,檢測的極限可以達到固體含量的ppt水平,支持無標準分析,低溫樣品池設計,低熔點的金屬。 高分辨率輝光放電質譜儀主要用于高純材料的雜質分析,例如高純Si,As, Ge, Cu, Ga, Nb, Ta, 稀土等等,還有陶瓷,玻璃,功能材料等等,是半導體行業,材料行業,冶金行業,等等不可缺少的儀器技術參數: 連續可調高分辨率 <1cps的背景 其他指標詳詢主要特點: 連續可調高分辨率 低背景,包括低質量數端的背景 針狀,片狀樣品 高靈敏度,低檢測限連續

            高分辨輝光放電質譜儀 Autoconcept GD90

            高分辨輝光放電質譜儀 Autoconcept GD90

            • 品牌: 英國質譜
            • 型號: Autoconcept GD90
            • 產地:英國
            • 供應商:北京眾星聯恒科技有限公司上海辦事處

              Autoconcept GD90是一個專為高精度元素分析所設計的高分辨輝光放電質譜儀。此輝光放電質譜儀(GDMS)提供了固體金屬與絕緣體的直接分析檢測。它具有非常寬的元素覆蓋范圍,可得到超過70種元素的有效數據,靈敏度高,輕元素重元素均可。 GDMS技術使原子化(碎片化)過程與離子化過程分開進行,故而可容易的對ppb至ppt級別的痕量雜質進行測量。此法還使得GDMS技術擁有最小的基體效應且無須特定參照材料。它可對金屬與合金進行全掃描分析,可對半導體進行大量的測量分析,可對多層結構與鍍層進行深度剖析。是包括金屬、合金、半導體以及絕緣體(須配RF源)等高純材料的生產與質量控制的理想工具。 主要特性: 高分辨率,特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要。 廣泛的元素涵蓋范圍,軟件中包括70個元素相關的干擾離子數據。 由于原子化和離子化過程發生在不同區域,帶來可忽略的基體效應。 低至亞ppb級的定量數據。 具有深度剖面同位素比值分析能力。 最少的樣品制備過程。

            賽默飛ELEMENT GD Plus輝光放電質譜儀

            賽默飛ELEMENT GD Plus輝光放電質譜儀

            • 品牌: 賽默飛世爾
            • 型號: ELEMENT GD
            • 產地:德國
            • 供應商:賽默飛色譜質譜及痕量元素分析

              Thermo Scientific ELEMENT GD結合了輝光放電離子源和雙聚焦高分辨率質量分析器,可以定性定量分析固體樣品中包括C、N、O在內的幾乎所有元素,是直接、快速分析高純樣品雜志含量和鍍層材料元素組成的最佳工具。ELEMENT GD集中了輝光放電和高分辨質譜的優勢,在以下方面有杰出表現: 樣品測試通量高:ELEMENT GD離子源和樣品夾的設計使可縮短換樣和分析時間,顯著提高生產率; 檢測器線性范圍寬:檢測器線性范圍達12個數量級,可一次掃描同時檢測基體和痕量元素組成; 具有固定寬度的低、中、高分辨率狹縫,采用高分辨率可直接分析有質譜干擾的同位素。

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